Описание
В двухлучевой системе Helios реализованы новейшие достижения в области автоэмиссионных SEM (FESEM), фокусированного ионного пучка (FIB) и совместного использования этих технологий. Helios NanoLab специально разрабатывался как инструмент, позволяющий максимально широко использовать возможности сверхвысокого разрешения (XHR) при выполнении 2D- и 3D-анализа, создании нанопрототипов и подготовке образцов высочайшего качества. Технология Elstar™ FESEM обеспечивает наилучшую детализацию в нанометровом диапазоне в самых разных рабочих режимах: точность значительно ниже 1 нм достигается как при 30 кВ в режиме STEM для получения информации о структуре, так и при 500 В для беззарядного получения детальных данных о поверхности. предусмотрена тройная система детектирования внутри колонны и режим иммерсии, которые могут использоваться одновременно для формирования изображений SE и BSE (вторичных и обратноотражённых электронов) в зависимости от угла и энергии пучка.
Фото галерея
Технические характеристики
Электронная пушка Elstar, в том числе:
Термополевой эмиттер Шоттки
Возможность переключения между режимами без нарушения вакуума
Технология UC (монохроматор)
Диапазон энергии пучка у поверхности образца 20 В – 30 кВ
60° объектив с двумя линзами с защитой полюсного наконечника
Нагреваемые апертуры объектива
Электростатическое сканирование
Технология линзы с постоянной мощностью ConstantPower™
Торможение пучка с подачей потенциала на предметный столик от 0 В до –4 кВ
Интегрированная функция быстрого гашения (бланкера) пучка*
Ионная колонна Tomahawk
Превосходные характеристики при работе на высоком токе с макс. током пучка до 65 нА
Диапазон ускоряющего напряжения 500 В – 30 кВ
Двухступенчатая дифференциальная откачка.
Времяпролётная коррекция (TOF)
15 апертур
Срок службы источника
Срок службы источника электронов: 12 месяцев
Срок службы источника ионов: гарантия 1000 часов
Разрешение ионного пучка в точке пересечения
4,0 нм при 30 кВ с использованием предпочтительного статистического метода
2,5 нм при 30 кВ с использованием
Максимальная ширина горизонтального поля
Электронный пучок: 2,3 мм в точке совпадения пучка (рабочее расстояние 4 мм)
Ионный пучок: 0,9 мм при 8 кВ в точке совпадения пучка
Ток зонда
Электронный пучок: от 0,8 пA до 22 нА (CX); от 0,8 пA до 100 нА (UC);
Ионный пучок: 0,1 пA – 65 нA (апертурная полоса с 15 положениями)
Поделитесь ссылкой на эту страницу
Похожее оборудование
